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等离子体系统

等离子体设备:提供手动、稳定以及在线解决方案的模块化设计

RELYON Plasma公司为手动、固定以及在线解决方案提供等离子体系统设备。此类设备特别适合应用于工业、手工业、医疗以及相关的研究实验领域。

根据这些技术平台可以根据您的需求提供各种各样的模块化设备系统。这涵盖了从个人手工平台到全自动高速机械系统的全部领域。

根据不同种类的技术需求,我们在我们的产品设备中使用了两种不同的等离子体技术

PDD技术

压电直接放电技术(Piezoelectric Direct Discharge Technology-PDD Technology®):需要冷活性等离子体对敏感过程进行加工处理。

Plasma-Systeme mit PDD Technologie: Piezoelectric direct discharge technology
PDD技术
压电直接放电技术PDD Technologie >>

PAA技术

脉冲常压电弧技术(Pulsed Atmospheric Arc Technology-PAA Technology®):需要高功率等离子体的高速加工处理过程。

Plasma-Systeme mit PAA Technologie: Pulsed Atmospheric Arc Technology
PAA技术
脉冲常压电弧技术PAA Technologie >>

不同等离子体技术的对比

下表展示了基于两种等离子体技术的设备系统的特性对比:

等离子体设备系统plasmabrush PB3piezobrush PZ2
工作技术原理PAA技术PDD技术
喷嘴类型A450标准喷嘴
等离子体 / 功耗150瓦 / 700瓦8.3瓦 / 18瓦
等离子体火焰温度几百摄氏度接近室温
工作气体CDA周围空气
气体流速50升/分钟10升/分钟
工作频率54000赫兹50000赫兹
喷嘴距离10毫米2毫米
激活速度1米/秒1厘米/秒

更多等离子体设备系统请详见我们的产品手册

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