等离子体系统
等离子体设备：提供手动、稳定以及在线解决方案的模块化设计
RELYON Plasma公司为手动、固定以及在线解决方案提供等离子体系统设备。此类设备特别适合应用于工业、手工业、医疗以及相关的研究实验领域。
根据这些技术平台可以根据您的需求提供各种各样的模块化设备系统。这涵盖了从个人手工平台到全自动高速机械系统的全部领域。
根据不同种类的技术需求，我们在我们的产品设备中使用了两种不同的等离子体技术：
PDD技术
压电直接放电技术（Piezoelectric Direct Discharge Technology-PDD Technology®）：需要冷活性等离子体对敏感过程进行加工处理。
PAA技术
脉冲常压电弧技术（Pulsed Atmospheric Arc Technology-PAA Technology®）：需要高功率等离子体的高速加工处理过程。
不同等离子体技术的对比
下表展示了基于两种等离子体技术的设备系统的特性对比：
| 等离子体设备系统 | plasmabrush PB3 | piezobrush PZ2 |
| 工作技术原理 | PAA技术 | PDD技术 |
| 喷嘴类型 | A450 | 标准喷嘴 |
| 等离子体 / 功耗 | 150瓦 / 700瓦 | 8.3瓦 / 18瓦 |
| 等离子体火焰温度 | 几百摄氏度 | 接近室温 |
| 工作气体 | CDA | 周围空气 |
| 气体流速 | 50升/分钟 | 10升/分钟 |
| 工作频率 | 54000赫兹 | 50000赫兹 |
| 喷嘴距离 | 10毫米 | 2毫米 |
| 激活速度 | 1米/秒 | 1厘米/秒 |
更多等离子体设备系统请详见我们的产品手册。