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Piezo Radial Source

Plasmacell P300 con Piezo Radial Source

En cooperación con el Instituto de Investigación de Química Textil y Física Textil de la Universidad de Innsbruck, Relyon Plasma GmbH ha desarrollado el PlasmaCell P300 con fuente piezoeléctrica radial, diseñado especialmente para el tratamiento con plasma de materiales en rollo.

Fig. 1: El Plasmacell P300 multifunción con fuente piezoeléctrica radial incorporada

Este sistema permite la aplicación de nuestras dos tecnologías bien establecidas, Arco Atmosférico Pulsado (PAA®) y Descarga Directa Piezoeléctrica (PDD®), sobre un sinfín de sustratos tales como fibras textiles.

Fig. 2: Cámara de proceso con el chorro de Plasmabrush® PB3 de fondo y el paso de una fibra textil a través de la fuente piezoeléctrica radial en la parte superior

 

El material puede introducirse en la cámara de proceso por medio de pasamuros en ambos lados (ver fig. 2), donde puede ser tratado con el sistema PB3 de alto rendimiento (PAA Technology®, ver fig. 3) o con la innovadora fuente piezoeléctrica radial (PDD Technology®, ver fig. 4).

 

Fig. 3: Tratamiento de la banda elástica con el sistema PB3 (PAA Technology®)

 

Fig. 4: Uno de los ocho Módulos Piezoeléctricos (PDD Technology®) de la Fuente Piezo Radial durante el tratamiento de una fibra textil

La Fuente Piezo Radial consta de ocho módulos con transformadores piezoeléctricos CeraPlas-HF® de alta eficiencia. Este novedoso componente se basa en la tecnología PDD® del dispositivo portátil PZ2, que permite un tratamiento con plasma a temperatura ambiente. Gracias al diseño modular del innovador sistema global, el Piezo Radial Source se puede extraer de una pieza de la cámara de proceso (ver fig. 5). Para lograr un tratamiento uniforme de varios sustratos, los ocho módulos individuales están montados en cuatro niveles y son ajustables individualmente con tornillos moleteados (ver fig. 6). Además, debido a la estructura modular, tanto el número como la posición de los módulos piezoeléctricos pueden adaptarse a diferentes procesos.

 

Fig. 5: Fuente Piezo Radial, compuesta por cuatro niveles, cada uno con dos módulos desplazables individualmente

 

Fig. 6: Un solo módulo de la fuente piezoeléctrica radial, la posición y la distancia del sustrato pueden ajustarse fácilmente para cada módulo dentro de los cuatro niveles

 

La célula de plasma P300 con fuente piezoeléctrica radial, especialmente diseñada para la Universidad de Innsbruck, tiene todas las ventajas de la probada solución independiente de la célula de plasma P300, como un manejo sencillo e intuitivo, así como un diseño compacto y robusto. La fuente piezoeléctrica radial hecha a medida como inserto modular ofrece posibilidades completamente nuevas en el tratamiento por plasma uniforme de materiales continuos con diámetros de hasta 60 mm. Para la tobera de plasma PB3, las ventajas de una trayectoria tridimensional para el mecanizado de cualquier geometría permanecen, con la posibilidad de tratar material sin fin con un diámetro de hasta 65 mm a través de las pasadas laterales.

 

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